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【恭喜宿主获得奖励:原子光刻机研发技术!
】
哇草——
原子光刻机??
正在开车的洛云峥蛋蛋一震!
无数复杂的光刻机技术排队灌入他的脑海。
上一次的万分超级大奖是1nm芯片研发技术,近一个半月,他一直在私下研究消化,同时让沈夜子秘密前期筹备。
如果想生产出1nm芯片,必须拥有能承载1nm生产工艺的光刻机,因为芯片在设计之后,要经过一系列复杂的生产流程,而光刻是其中最重要的环节。
光刻机对于芯片,相当于“印刷机+雕刻刀”
的综合体,即把芯片设计图以纳米级精度“印刻”
到硅晶圆上,它决定了电路的最小线宽与关键尺寸,是整个制造流程的核心。
目前世界上的主流光刻机,根据光源不同,分为UV(紫外光源)、DUV(深紫外光源)、EUV(极紫外光源)。
其中EUV光刻机技术最先进,可以生产2nm芯片,荷国的阿丝麦公司是全球唯一量产EUV的供应商,苔积电、三星、英特尔为主要客户。
龙国的光刻机技术相对落后,仍处在DUV阶段,当然还有别的光刻模式,比如电子束光刻机,但国内最先进的光刻机只能生产7nm芯片,而且暂时未能量产。
拿华伟举例,华伟最新款旗舰手机MateXTS三折叠,芯片为麒林9020,工艺为龙芯国际7nm,该工艺采用的光刻机是荷国阿丝麦公司的浸没式DUV。
问:为什么不采用更高端的EUV光刻机?
答:荷国在米方的施压下实施出口管制。
因此,龙国的芯片行业一直被欧美卡着脖子,花高价都买不到高端光刻机。
系统传授洛云峥的光刻机是原子技术,原子光刻机与EUV等主流光刻机区别很大。
对比来看——
精度方面:原子光刻机的分辨率能突破0.3纳米,而当前最先进的EUV光刻机精度只能达到2nm。
能耗方面:原子光刻机与EUV光刻机相比,可将芯片制造能耗降低80%。
成本方面:原子光刻机的成本可压缩到EUV光刻机的15,要知道高端EUV光刻机的售价高达25亿台,成本之昂贵,可见一斑。
一句话,原子光刻机吊打当今世界上最先进的EUV光刻机。
别说1nm芯片了,0.3nm都可以承制。
因为技术过高,全球至今无人能研发出原子光刻机,目前处于理论试验阶段。
洛云峥如果研发出原子光刻机,生产1nm芯片那是手拿把掐,龙国在芯片和光刻机领域也将一骑绝尘,遥遥领先!
我就说嘛~
只奖励我1nm芯片研发技术,却不奖励能制造它的光刻机,这不是玩儿我嘛。
现在好了,完美解决!
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