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山巍04科技霸权 （第1页）

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研究生的贴在电子发aanj烧友论aanj坛里火了，连翻十几aanj页，盖了一aanj栋两千层大楼，楼里都是来求证的半导体圈内人。

135n光源系统设备专利注册……吹吧，吹到牛皮破了说aanj不定国外人真相信了。

专利都申请，不可能有假吧？

建议你aanj查一aanj查汉芯事件，当年凭一aanj块美国二手芯片在国内注册专利，狂揽十几aanj亿。

学术圈造假比比皆是，诺贝尔奖都能造假，何况一aanj个专利？

要真是135n光源系统设备被研发aanj出来，堪比euv的国产光刻机就能造出来了吧？我国多久能追上asl？

傻吗你aanj？人家asl四五十年前开始研究光刻机，集齐全球两千多名aanj顶级工程师，镜头用德国蔡司，光源用美国cyr，垄断双工作台技术……我国追上现在的asl至少需要二十年！

我国虽然不至于举国之力研发aanj光刻机，但这方面也aanj布局二十多年，不至于被asl比到尘埃去吧？

申市微电子科技目前只能造出90n工艺制程的光刻机，还不确定是否能量产，你aanj说aanj差距多大？

怎么歪楼了？不是涛135n光源系统设备是否真的被研发aanj出来吗？

假如！

假如135n光源系统设备被研发aanj出来，我国多久能拥有一aanj台国产euv？

保守估计，明年下个季度。

但也aanj有可能，今年年底可实现国产euv验收。

！

！

！

不是还有其他子系统设备没研发aanj出来吗？

只要最关键的光源系统设备和双工作台系统研发aanj出来，其他问题被解决只需要时间和人手。

看来还是没人知道135n光源系统设备被研发aanj出来到底意味着什aanj么！

所以你aanj能说aanj明白吗？

春城和申市两大光机所接下光学子系统研发aanj（就是高精度镜头），水木大学研发aanj团队负责双工作台系统（工程已验收），南大光电是光刻胶，蓝河科技接下光源系统科学专项，申市微电子科技负责最终组装……蓝河科技已跟申市微电子科技达成合作！

说aanj得再简单点，研发aanj出135n光源系统设备就意味着极紫外光刻机最迟明年一aanj定能验收！

我只关心一aanj点，美帝芯片制裁是不是再也aanj不能威胁到我国？

说aanj再多的光刻机，我国半导体产业不如美帝发aanj达完善。

e……美狗来了？国外不够你aanj舔，国内发aanj疯？

楼上上蠢而aanj不自知，照我国的速度，一aanj旦有了国产euv，两三年内必定建成比美国还完善的半导体产业链！

说aanj的没错！

我国ic设计其实赶得上美国水平，主要还是光刻机限制了我们的发aanj展。

666。

话说aanj，你aanj们看专利申请的发aanj明人那一aanj行了吗？

……没注意到，我回去看――

看完回来，下巴没了，膝盖跪烂。

？？？我大中aanj华16亿人，同名aanj同姓的概率最小也aanj有1！

所以此盛明安一aanj定不是我认识的盛明安对吧？

蓝河科技跟盛明安有什aanj么关系？盛明安不是科大学生吗？今年大二吧！

科大学业繁重，不可能是盛明安。